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變倍光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)設(shè)備及變倍光學(xué)系統(tǒng)的制造方法與流程

文檔序號:42041804發(fā)布日期:2025-05-30 17:41閱讀:613來源:國知局

本公開涉及變倍光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)設(shè)備及變倍光學(xué)系統(tǒng)的制造方法。


背景技術(shù):

1、以往,提出了照片用相機、電子靜態(tài)相機、攝像機等光學(xué)設(shè)備中使用的變倍光學(xué)系統(tǒng)(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1:日本特開2021-189401號公報


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的變倍光學(xué)系統(tǒng)從物體側(cè)依次具備具有正的光焦度的第1透鏡組、具有負(fù)的光焦度的第2透鏡組、具有正的光焦度的第3透鏡組及具有多個透鏡組的后續(xù)透鏡組,在變倍時,第1透鏡組及第3透鏡組相對于像面固定,相鄰的各透鏡組之間的間隔變化,變倍光學(xué)系統(tǒng)滿足以下的條件式:

2、0.24<(tl/f1)/(ft/fw)<0.55

3、其中,

4、tl:從最靠物體側(cè)的透鏡面到像面為止的距離,

5、f1:第1透鏡組的焦距,

6、ft:遠(yuǎn)焦端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距,

7、fw:廣角端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距。

8、本公開的變倍光學(xué)系統(tǒng)的制造方法包括使從物體側(cè)依次具備具有正的光焦度的第1透鏡組、具有負(fù)的光焦度的第2透鏡組、具有正的光焦度的第3透鏡組及具有多個透鏡組的后續(xù)透鏡組的變倍光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成為,在變倍時,第1透鏡組及第3透鏡組相對于像面固定,相鄰的各透鏡組之間的間隔變化,變倍光學(xué)系統(tǒng)滿足以下的條件式:

9、0.24<(tl/f1)/(ft/fw)<0.55

10、其中,

11、tl:從最靠物體側(cè)的透鏡面到像面為止的距離,

12、f1:第1透鏡組的焦距,

13、ft:遠(yuǎn)焦端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距,

14、fw:廣角端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距。



技術(shù)特征:

1.一種變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng),其中,

11.一種光學(xué)設(shè)備,具有權(quán)利要求1至10中任一項所述的變倍光學(xué)系統(tǒng)。

12.一種變倍光學(xué)系統(tǒng)的制造方法,其中,


技術(shù)總結(jié)
使從物體側(cè)依次具備具有正的光焦度的第1透鏡組、具有負(fù)的光焦度的第2透鏡組、具有正的光焦度的第3透鏡組及具有多個透鏡組的后續(xù)透鏡組的變倍光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成為,在變倍時,第1透鏡組及第3透鏡組相對于像面固定,相鄰的各透鏡組之間的間隔變化,變倍光學(xué)系統(tǒng)滿足以下的條件式:0.24<(TL/f1)/(ft/fw)<0.55?其中,TL是從最靠物體側(cè)的透鏡面到像面為止的距離,f1是第1透鏡組的焦距,ft是遠(yuǎn)焦端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距,fw是廣角端狀態(tài)下的變倍光學(xué)系統(tǒng)的焦距。

技術(shù)研發(fā)人員:町田幸介,栗林知憲
受保護(hù)的技術(shù)使用者:株式會社尼康
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/29
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